半導体製造に欠かすことのできないクリーンルーム。
製造歩留まりにはクリーンルーム内の分子状汚染物質（AMC, Airborne Molecular Contamination）と呼ばれる化学物質の存在が大きく影響する因子の一つといわれています。当社International Green Technologyでは、AMCを除去するケミカルフィルター「SolaCiel™」の提供により、世界の半導体製造現場をこれからも支えていきます。
Clean Solutions
Filtering
Airbone
Molecular
Contamination
Clean Solutions
Filtering
Airbone
Molecular
Contamination
フィルター設置場所
フィルター製品
ハニカム構造メディアのケミカルフィルタ
外調機（AHU）に適した仕様
低圧損、低発塵で有機ガス、酸性ガスの除去が可能
活性炭粉末を高含有率でハニカム状にした特殊な構造
粒状活性炭メディアのケミカルフィルタ
外調機（AHU）に適した仕様
低圧損で有機ガス、酸性ガスの除去が可能
トレータイプのフィルターで交換がしやすいな汎用的な構造
プリーツ状メディアのケミカルフィルタ
半導体や電子デバイスの製造装置に適した仕様
低濃度の有機ガス、酸性ガス、アルカリ性ガスの除去が可能
不織布の間に活性炭やイオン交換体を固着した特殊な構造
連続貫通孔メディアのケミカルフィルタ
ファンフィルタユニット（FFU）搭載に適した仕様
低圧損で有機ガス、酸性ガス、アルカリ性ガスの除去が可能
お使いの環境に合わせてメディアを積層させた使用が可能
ウレタンフォームに活性炭やイオン交換体を固定した特殊な構造
対応表
| For | Model | Target Gas | ||
| Organic | Acid | Base | ||
| 半導体製造装置 電子デバイス製造装置 |  | ✓ | ✓ | ✓ |
| FFU クリーンベンチ | | ✓ | ✓ | |
| 外調機（AHU） |  | ✓ | ✓ | |
代表的なガス
| Gas | Material | Problem |
| TMS, IPA, PGMEA, トルエン, n-デカン, HMDS | ウエハの汚染 レンズの汚染 |
| Acids | SO2, H3PO4, CH3COOH | 金属配線の腐食 ウエハの汚染 レンズの汚染 |
| NH3, NMP, TMA, Morpholine | ウエハの汚染 レンズの汚染 |
| Others | H2S | 金属配線の腐食 |