空气清洁解决方案

针对气体性分子污染物
(Airborne Molecular Contamination)
进行过滤

Clean Solution

Filtering

Airbone

Molecular

Contamination

洁净室是半导体的生产制造过程中不可或缺的重要部分。
洁净室中存在的气体性分子污染物(AMC, Airborne Molecular Contamination)会对产品的良品率造成非常大的影响。
我司(International Green Technology)开发生产的化学空气过滤产品「SolaCiel™」可以对AMC进行针对性去除。
今后将广泛应用于全球半导体行业,为产业的持续发展保驾护航。

滤芯设置场所

空气滤芯产品

蜂窝结构介质的化学滤芯
规格适用于外部空调机组 (AHU)
可有效去除有机气体和酸性气体,具有压损低,发尘少的特点
通过将高含量活性炭粉末材料进行模制加工,实现了特殊的蜂窝状结构

颗粒状活性炭介质化学滤芯
规格适用于外部空调机组 (AHU)
可以在低压损下有效去除有机气体和酸性气体。
其采用的托盘状通用构造非常便于更换。

褶状介质化学滤芯
规格适用于半导体及电子器件制造设备
可有效去除低浓度有机气体、酸性气体、碱性气体
采用将活性炭和离子交换物质在无纺布之间固着的特殊结构

采用连续通孔介质的化学滤芯
规格适用于风扇过滤器单元 (FFU)
可以在低压损下有效去除有机气体、酸性气体、碱性气体
可以通过堆叠使用以匹配您的使用环境。
采用了将活性炭和离子交换器固着在聚氨酯泡沫上的特殊结构

产品对应表

用途型号针对气体
有机酸性碱性
半导体制造装置
电子设备制造装置
✓✓✓
FFU
无尘工作台
 ✓✓
外部空调机组(AHU)✓✓ 

案例

气体材料对应课题

可冷凝物

挥发物

TMS, IPA, PGMEA,甲苯,正癸烷, HMDS晶圆污染
镜头污染
酸性SO2, H3PO4, CH3COOH金属线路腐蚀
晶圆污染
镜头污染

碱性

胺

NH3, NMP, TMA, Morpholine晶圆污染
镜头污染
其它H2S金属线路腐蚀